Thiết bị ZSX Primus II của Rigaku được thiết kế với đường quang ở trên giúp ngăn ngừa sự nhiễm bụi vào đường quang nên ít phải bảo trì. Thiết bị có đặc tính giữ cố định khoảng cách giữa bề mặt mẫu và ống phát tia X. Điều này có ý nghĩa quang trọng trong việc phân tích các mẫu đòi hỏi độ chính xác cao như hợp kim. Hơn nữa, độ chính xác của phép đo được nâng cao khi hệ thống chỉ có một hệ quang học đặc biệt duy nhất để giảm tối đa sai số gây ra bởi bề mặt mẫu như fused bead và mẫu ép viên. Với chức năng SQX và EZ của phần mềm thì hệ thiết bị ZSX Primus II càng trở nên hoàn hảo hơn; SQX cung cấp tốc độ phân tích nhanh và đảm bảo độ chính xác cho từng phép đo còn EZ cho phép người sử dụng phân tích mẫu một cách dễ dàng mà không cần thiết lập quy trình trước đó
Tính năng
- Phân tích được từ nguyên tố O đến U
- Thiết kế ống quang học ở trên cho phép tránh tối đa sự nhiễm bẩn
- Vị trí mẫu có độ chính xác cao (giữa cố dịnh khoảng cách giữa bề mặt mẫu và ông tia X)
- Hệ quang học đặc biệt làm giảm sai số gây ra bởi bề mặt mẫu
- Phần mềm có khả năng kiểm soát thống kê (SPC - statistical process control)
- Có chức năng tối ưu hóa thông lượng mẫu