• Công nghệ plasma Flat Plate^TM giúp giảm tiêu thụ khí argon.

• Camera kiểm soát plasma PlasmaCam^TM giúp đơn giản hóa việc lập phương pháp và khả năng chẩn đoán từ xa.

• Hệ thống quang học tiên tiến giúp tăng giới hạn phát hiện

• Trường nhìn kép giúp tăng năng suất phân tích

• Detector mảng CCD trạng thái rắn

• Hệ thống khí cắt giúp giảm nhiễu

• Tháp plasma dễ điều chỉnh và tháo lắp, giúp đơn giản hóa việc bảo dưỡng và tối ưu hóa hiệu năng.

Máy quang phổ

• Máy quang phổ kép: Cho tốc độ phân tích nhanh, độ phân giải cao

• Máy quang phổ Echelle: Có tiêu cự 0,3 mét và thiết kế kiểu Stigmatic Littrow. Cách tử echelle có mật độ 79 vạch/mm với góc vát 63,4⁰

• Thông số: Dải phổ 160 ~ 900 nm, với độ phân giải < 0,009 nm ở 200 nm.

• Trường nhìn plasma: trường nhìn kép được điều khiển hoàn toàn bằng máy tính, có thể lựa chọn chế độ xuyên tâm, dọc trục hoặc hỗn hợp cả 2 chế độ cho bất kỳ bước sóng nào trong cùng một phương pháp.

• Detector: Loại detector mảng CCD, được làm mát trực tiếp bằng máy làm mát Peltier ở -8⁰C. Detector này có 2 phân đoạn nhạy quang với kích thước 176x128 pixels. Một dùng để đo chất phân tích, một để đo chất so sánh. Detector CCD thu cả 2 tín hiệu phổ chất phân tích và phổ nền cho phép hiệu chỉnh nền, giúp tăng độ chính xác và tốc độ phân tích

Hệ thống ICP

• Máy phát cao tần: Optima 8000 được trang bị máy phát cao tần trạng thái rắn thế hệ thứ 4, với tần số 40MHz, có thể điều chỉnh công suất từ 750 – 1500 W, với bước tăng 1W. Hiệu suất năng lượng lên tới hơn 81%.

• Việc đánh lửa cho plasma được điều khiển hoàn toàn bằng phần mềm máy tính. Plasma có thể tự động đánh lửa vào một thời điểm mà người sử dụng đã định trước và tự động tắt sau khi phân tích xong.

• Để an toàn cho người sử dụng và bảo vệ hệ thống, hệ thống sẽ liên tục kiểm soát dòng nước, áp suất khí cắt, áp suất khí argon, cửa bảo vệ và hiển thị trạng thái khóa bằng biểu tượng trên màn hình máy tính. Nếu một trong các khóa này bị ngắt, plasma sẽ ngay lập tức tắt.

• Hệ thống làm mát tuần hoàn được yêu cầu với tốc độ dòng chảy khoảng 4L/phút ở áp suất 310 ~ 550 kPa và nhiệt độ 15 ~ 25⁰C.

Điều khiển dòng khí

• Khí argon: các van solenoid điều khiển bằng máy tính được sử dụng để điều chỉnh tự động dòng khí sao cho nằm trong khoảng 0 ~ 20 L/phút với bước tăng 1 L/phút cho khí argon plasma, trong khoảng 0 ~ 2 L/phút với bước tăng 0,1 L/phút cho khí argon phụ trợ. Một bộ điều khiển dòng khối được cung cấp để điều chỉnh dòng khí argon nebulizer sao cho nằm trong khoảng 0 ~ 2 L/phút với bước tăng 0,01 L/phút

• Khí cắt: Khí cắt không khí nén (18 ~ 25 L/phút) được sử dụng để loại bỏ đuôi plasma, giúp giảm nhiễu và tăng dải động học. Cắt đuôi plasma bằng khí nên không cần bảo dưỡng và giúp giảm chi phí.

Hệ thống dẫn mẫu

• Tháp plasma: sử dụng một ống thạch anh, bên trong có một vòi phun (injector) bằng nhôm, chống chịu được sự ăn mòn và axit, kể cả axit HF và nước cường toan. Ngoài ra còn một số loại injector khác để khách hàng có thể lựa chọn. Buồn phun sương được gắn tích hợp với tháp plasma. Hệ thống dẫn mẫu có thể điều chỉnh và tháo lắp dễ dàng mà không cần dụng cụ.

• Buồng phun sương: loại Scott bằng nhựa Ryton chống HF hoặc loại xoáy dòng Cyclonic.

• Đầu phun sương: loại chéo dòng hoặc loại đồng tâm bằng thủy tinh. Loại chéo dòng với thiết kế GemTips có khả năng chịu ăn mòn. Ngoài ra, model Optima 8000 còn có một lựa chọn khác là hệ thống dẫn mẫu với đầu phun sương điện tử eNeb, giúp tăng giới hạn phát hiện gấp 2 ~ 4 lần.

• Bơm nhu động: 3 kênh, điều khiển bằng máy tính, có thể thay đổi tốc độ trong khoảng 0,2 ~ 5 mL/phút với bước tăng 0,1 mL/phút, sử dụng ống dẫn có đường kính 0,76 mm. Phần mềm trang bị tính năng FastPump và SmartRinse, giúp giảm thời gian phân tích.

Thông số vật lý chung

• Nguồn điện:          Một pha, 200-254 VAC, dòng 20A, 50/60 Hz

• Kích thước:           Rộng 132cm, cao 81cm, dài 76 cm, nặng 132.5 kg

• Môi trường:           Thiết bị được vận hành trong phòng thí nghiệm có nhiệt độ trong khoảng 15 ~ 35⁰C. Để tối ưu hóa hiệu năng của thiết bị, nhiệt độ phòng nên được kiểm soát ở khoảng 20±2⁰C.