Kính hiển vi lực nguyên tử

Trang chủ

Giới thiệu

Trang chủ » Sản phẩm » Thiết bị phân tích bề mặt

Trang chủ » Sản phẩm » Thiết bị phân tích bề mặt » Kính hiển vi lực nguyên tử - AFM: Tosca™ 400

Kính hiển vi lực nguyên tử Tosca™ 400 cung cấp thông tin 3 chiều thực của địa hình bề mặt. Đây là một phương pháp tiêu chuẩn cho ngành khoa học vật liệu ở cấp nano, thường được sử dụng ở các trường đại học cũng như các trung tâm nghiên cứu. ToscaTM 400 kết hợp một cách độc đáo công nghệ cao cấp với quá trình vận hành đơn giản, giúp thiết bị phù hợp với cả người sử dụng công nghiệp cũng như các nhà khoa học. Tự động hóa là một yếu tố tích hợp trên mỗi mức hoạt động, tăng hiệu quả và đơn giản hóa việc tiến hành các phép đo AFM.

Tính năng

- Kỹ năng định hướng tuyệt vời: Tự động căn chỉnh laser

- Cái nhìn tổng thể: Khu vực quét rộng lớn theo mọi hướng kết hợp với độ chính

xác cao nhất

- Quá trình gá dễ dàng nhất thị trường AFM

- Tương thích với bất kỳ cantilever

- Sự di chuyển trên mẫu tuyệt vời

Thông số kỹ thuật

Scanner
Dải quét phương X-Y	100 µm x 100 µm
Dải quét phương Z	15 µm
Kích thước mẫu
Đường kính mẫu lớn nhất	90 mm
Chiều cao mẫu lớn nhất	25 mm
Khối lượng mẫu lớn nhất	≤600 g
Bộ cơ giới
Phương X-Y	Hành trình 100 mm
Phương Z	Hành trình 85 mm
Độ lặp lại vị trí (uni-directional)	<1 µm
Video microscope
Camera	Màu, 5 megapixel, CMOS sensor
Thị trường	1.73 mm x 1.73 mm
Spatial resolution	5 µm
Focus	Motorized focus
Camera tổng thể
Camera	Màu, 5 megapixel, CMOS sensor
Thị trường	40 mm x 40 mm
Spatial resolution	50 µm
Camera mặt bên
Camera mặt bên	Đen trắng, khoảng nhìn 25 mm
Các chế độ tiêu chuẩn
Hình ảnh	Chế độ tiếp xúc (contact), chế độ tapping (bao gồm hình ảnh pha), lateral force microscopy
AFM
Kích thước	490 mm x 410 mm x 505 mm
Khối lượng AFM	51.1 kg
Kích thước bộ kiểm soát	340 mm x 305 mm x 280 mm
Khối lượng bộ kiểm soát	7.8 kg